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高溫管式電阻爐廠(chǎng)家這款管式爐以?xún)?yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件,采用雙層殼體結構,廈門(mén)宇電30段程序控溫系統,移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用1700型氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統,能快速升降溫,采用99剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封,用浮子流量計控制進(jìn)氣流量、該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優(yōu)點(diǎn),是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、真空退火用的理想產(chǎn)品。
在氣氛管式爐的使用過(guò)程中,溫度有時(shí)候會(huì )出現偏差,這個(gè)時(shí)候要涉及到的問(wèn)題就是要如何去校準了。
PECVD系統是一種基于等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的薄膜沉積設備,能夠對各種材料進(jìn)行薄膜沉積,包括金屬、半導體、絕緣體等。PECVD技術(shù)在微電子、光電、平板顯示、儲能等領(lǐng)域具有重要的應用價(jià)值。
真空管式爐是供實(shí)驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用儀器。
這款CVD系統集真空管式爐,多通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn)(有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術(shù),具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡(jiǎn)單易操作等特點(diǎn)。
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