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熱誘導化學(xué)氣相沉積 (英語(yǔ):chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無(wú)論是單晶，多晶，無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過(guò)使用合成前體，涂層非常純凈并目滿(mǎn)足半導體工業(yè)的典型要求，根據工藝參數，可以有多種層厚度。